真空等(děng)離子(zǐ)清(qīng)洗(xǐ)機 XM-GDF-10
XM-GDF-10係列等離(lí)子清洗機(jī)定位於(yú)小規模生(shēng)產(chǎn)及各大(dà)院(yuàn)校(xiào)科(kē)學實驗使用，廣泛應(yīng)用於電子，太陽(yáng)能(néng)，汽(qì)車，紡(fǎng)織(zhī)，包裝(zhuāng)印刷(shuā)，生物醫療及(jí)通用行(háng)業，其(qí)特(tè)點為(wéi)處理效率(shuài)高(gāo)，重(zhòng)復性和(hé)穩(wěn)定性良好，操(cāo)作方(fāng)便(biàn)，工藝(yì)參(cān)數(shù)多(duō)樣性(xìng)，執行多樣(yàng)化任(rèn)務(wù)，適(shì)用於清洗，活(huó)化，提高(gāo)粘結力，附(fù)著力(lì)及(jí)刻蝕等工(gōng)藝(yì)，並可根據(jù)客戶不(bù)同需(xū)求量(liáng)身(shēn)定製專業(yè)，高(gāo)效(xiào)，穩定(dìng)的解(jiě)決方案。
等(děng)離子清(qīng)洗(xǐ)機(jī)原理：
等離子(zǐ)體和(hé)固(gù)體，液體或氣(qì)體一樣(yàng)，是物(wù)質(zhì)的一(yī)種狀(zhuàng)態，也(yě)叫做物質的第(dì)四態(tài)。等(děng)離子(zǐ)體狀態中存在下列物質：處(chǔ)於高速運動狀態的(dí)電子(zǐ)；處於(yú)激活(huó)狀態(tài)的中性(xìng)原子，分子(zǐ)，原子團(tuán)（自由(yóu)基）；離子化(huà)的(dí)原(yuán)子，分子；未(wèi)反(fǎn)應(yīng)的分子，原子(zǐ)等(děng)，但(dàn)物質在總(zǒng)體上仍保(bǎo)持電(diàn)中性狀態。
對(duì)氣體施加(jiā)足夠(gòu)的能(néng)量(liáng)使(shǐ)之離化便成為(wéi)等離子(zǐ)狀態(tài)。等(děng)離子體的“活性(xìng)”組(zǔ)分包(bāo)括(kuò)：離子，電(diàn)子，活(huó)性基團(tuán)，激發態(tài)的核(hé)素(sù)（亞穩(wěn)態），光子(zǐ)等。等(děng)離子(zǐ)體(tǐ)表麵(miàn)處理儀就是(shì)通過利用(yòng)這(zhè)些(xiē)活性組分(fēn)的(dí)性質(zhì)來處理樣品表(biǎo)麵，從(cóng)而實(shí)現清(qīng)潔(jié)，改(gǎi)性，光刻(kè)膠灰化(huà)等(děng)目(mù)的。
等(děng)離(lí)子體(tǐ)中粒(lì)子的(dí)能(néng)量(liáng)一(yī)般約(yuē)為(wéi)幾個至(zhì)十(shí)幾電(diàn)子伏(fú)特，大於聚合物材料的(dí)結(jié)合鍵能(幾個(gè)至十幾(jī)電(diàn)子伏(fú)特)，完全(quán)可以破(pò)裂(liè)有(yǒu)機(jī)大(dà)分子的化學鍵(jiàn)而(ér)形成(chéng)新鍵(jiàn)；但(dàn)遠(yuǎn)低於高(gāo)能放射(shè)性(xìng)射綫，隻涉(shè)及(jí)材(cái)料表麵，不影響基(jī)體(tǐ)的(dí)性(xìng)能(néng)。處於(yú)非(fēi)熱力學平(píng)衡(héng)狀態(tài)下(xià)的低溫(wēn)等(děng)離子(zǐ)體中，電(diàn)子具有較高(gāo)的(dí)能量，可以斷裂(liè)材(cái)料表麵分(fēn)子的(dí)化學(xué)鍵(jiàn)，提高粒子(zǐ)的(dí)化學(xué)反應活(huó)性(大於熱等(děng)離子(zǐ)體(tǐ))，而中性粒(lì)子的溫(wēn)度接(jiē)近室溫(wēn)，這(zhè)些優(yōu)點為熱敏(mǐn)性高(gāo)分(fēn)子聚合物表麵(miàn)改(gǎi)性(xìng)提(tí)供了適(shì)宜的(dí)條件。通過低溫等離(lí)子體表(biǎo)麵處理(lǐ)，材料(liào)表麵發生多(duō)種的物理(lǐ)，化學變化(huà)，或(huò)產(chǎn)生刻蝕而(ér)粗糙(cāo)，或(huò)形(xíng)成致(zhì)密(mì)的交聯層(céng)，或引(yǐn)入(rù)含氧(yǎng)極性基(jī)團，使親(qīn)水性(xìng)，粘結(jié)性，可染(rǎn)色性，生(shēng)物兼容性及電(diàn)性(xìng)能分別(bié)得到(dào)改(gǎi)善(shàn)。在適宜的工藝條件(jiàn)下處(chǔ)理(lǐ)材料(liào)表麵(miàn)，使材料的(dí)表麵(miàn)形(xíng)態發生了顯著變(biàn)化(huà)，引入了多種(zhǒng)含氧基(jī)團，使表(biǎo)麵由(yóu)非極(jí)性(xìng)，難(nán)粘(nián)性(xìng)轉(zhuǎn)為有一定極(jí)性(xìng)，易粘性和(hé)親水性(xìng)，有利於粘(nián)結，塗覆和印(yìn)刷(shuā)。在(zài)電極兩端(duān)施(shī)加交(jiāo)流高頻高(gāo)壓，使兩電(diàn)極(jí)間的空(kōng)氣產(chǎn)生(shēng)氣體弧光放電(diàn)而(ér)形(xíng)成等離子(zǐ)區(qū)。電子(zǐ)在運動中不(bù)斷(duàn)與氣(qì)體(tǐ)分子發生(shēng)碰撞(zhuàng)，產生(shēng)了大(dà)量新(xīn)的電子，當這些電子到(dào)達(dá)陽極(jí)時，就(jiù)會(huì)在介質表(biǎo)麵集聚下(xià)來而實(shí)現(xiàn)對表(biǎo)麵(miàn)進行改性。
在(zài)真(zhēn)空(kōng)腔體裏，通過射頻電(diàn)源(yuán)在一(yī)定的壓力情(qíng)況(kuàng)下(xià)起輝產生高(gāo)能(néng)量的(dí)無序(xù)的等(děng)離(lí)子(zǐ)體，通過(guò)等離子(zǐ)體轟(hōng)擊被清洗產品(pǐn)表(biǎo)麵，以達到清(qīng)洗(xǐ)目(mù)的(dí)。
等離(lí)子處(chǔ)理(lǐ)優(yōu)勢：
與傳(chuán)統(tǒng)的工(gōng)藝相比較(jiào)，等離子表麵(miàn)處(chǔ)理(lǐ)技術具有(yǒu)以(yǐ)下優勢：
【功能強】：改(gǎi)性(xìng)作用(yòng)僅發生(shēng)在材料表(biǎo)麵（約(yuē)幾到幾(jī)十(shí)個納(nà)米），在(zài)不(bù)改變基體固有(yǒu)性(xìng)能(néng)的同(tóng)時，賦(fù)予其一種或(huò)多種新的功能(néng)；
【適用(yòng)廣(guǎng)】：不分處理(lǐ)對象(xiàng)的基(jī)材(cái)類(lèi)型，如(rú)金屬，塑料(liào)，玻璃(lí)，高分(fēn)子材料(liào)等(děng)均可進(jìn)行(háng)處理；
【易(yì)操作】：工藝(yì)簡單，操作(zuò)方(fāng)便(biàn)，生產可控(kòng)性(xìng)強(qiáng)且穩(wěn)定(dìng)性高；
【效(xiào)率高】：處(chǔ)理(lǐ)時間短(duǎn)，反應速率高(gāo)，處(chǔ)理(lǐ)均匀(yún)性(xìng)好；
【節(jié)能，環保】：全(quán)程幹燥的(dí)處(chǔ)理方(fāng)式，不消耗水資源，無需添(tiān)加化(huà)學藥劑(jì)，不產生汙(wū)染。
設(shè)備(bèi)工(gōng)作流程(chéng)圖：
產(chǎn)品技術(shù)參數(shù)：
| 產品名稱(chēng) | 真空(kōng)等離子清洗機(jī) |
| 艙體(tǐ)尺寸 | ≥Ø215×L300mm 不鏽鋼316 |
| 產(chǎn)品(pǐn)型號(hào) | XM-GDF-10 |
| 電源(yuán)功率(shuài) | 10～600W無(wú)級可(kě)調(tiáo) |
| 電源頻率 | 40KHZ |
| 供電電源(yuán) | AC220V（±10V） |
| 過程控製(zhì) | 自動與手動方式 |
| 控製(zhì)係(xì)統(tǒng) | 7英寸彩色(sè)觸(chù)摸(mō)屏 |
| 氣體路數 | 雙(shuāng)路(lù)氣(qì)體控(kòng)製(zhì) |
| 艙(cāng)體容積(jī) | 10.8L |
| 激發方(fāng)式(shì) | 電容式等離子(zǐ)激發方式(shì) |
| 可通(tōng)入氣(qì)體(tǐ) | 氬氣(qì)，氧(yǎng)氣，氮氣(qì)，空氣，氫(qīng)+氮(dàn)氣(混合氣(qì)體）等 |
| 外(wài)形尺寸 | 600×560×400 mm(長×深×高(gāo)） |
| 真空(kōng)度(dù) | 啟(qǐ)真空(kōng)度≤100pa，真(zhēn)空(kōng)度設(shè)定精確到(dào)≤1pa，設備極限真(zhēn)空(kōng)≤10pa |